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化学机械抛光技术原理及应用

类型：
专业课 - 电力工程（原电力工程机电、机电工程)
感兴趣人数：
171
点击量：
1881
学时数：
2.00
价格： ¥ 6.00
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目录

课时1 第一章 在线试看
00:22:16
课时2 第二章 在线试看
00:24:05

讲师介绍

黄雅婷

黄雅婷，北京工商大学材料与机械工程学院讲师。

课程介绍

CMP技术是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，它借助超微粒子的研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面上形成光洁平坦表面。如今大规模的电子产品催生了化学机械抛光技术的广泛应用，使得这一项老技术焕发了新的生命力，在集成电路及微电子生产方面，它是实现大面积全局平坦的唯一解决方案，在现代社会电子化进程中起着举足轻重的作用。

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  • 培途公开课
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    盐城市专业技术人员继续教育协会